微纳米增材制造技术能够制造具有高几何复杂度的多材料三维结构，这一成就在传统晶圆层封装方法下具有挑战性。这些技术还减少了对昂贵光刻膜的依赖，显著降低了先进封装结构相关的制造成本。应用于先进包装的主要微纳米制造方法可分为两类：(1)已有的金属微纳米3D打印，(2)电化学金属微纳米沉积。在这些领域中巴中镀铜钢绞线，目前采用了几项关键技术，包括纳米粒子金属3D打印、纯金属熔融3D打印、微球喷射和原位电化学金属沉积。

天线是无线电通信系统中的关键组成部分，负责将无线电发射机产生的高频电流转换为电磁波，随后再辐射以促进无线信号的传输。天线的微型化是现代通信技术中的一个重要趋势，尤其是在移动通信和便携设备领域。3D天线技术已成为提升微型天线性能的有前景方法。通过引入更高的几何自由度，三维天线克服了二维(2D)平面天线的局限，提供了更复杂的电磁性能和更好的空间分布。因此，它们提供了更优越的多频段能力，包括更宽的频率响应、更高的增益以及更灵活的辐射模式设计。与传统天线制造方法相比，3D打印技术在制造3D天线方面具有显著优势，包括能够直接制造原位3D片上天线。2024年，Sherburne等人开发了一种利用激光3D打印和形状记忆合金的宽带可重构复合天线。经过后热处理后，最初平坦的二维天线转变为三维锥形天线，实现动态天线重构，如图1所示。平面二维天线在7 GHz以下频率下增益更优，而三维锥形天线在7 GHz以上频率上展现出显著优势。这一发现凸显了可重构复合天线设计在实现宽频谱宽辐射覆盖方面的潜力。

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李女士最近收到一条好友申请，申请上备注招聘兼职员工，刚好最近想找份兼职，李女士便通过了对方的申请。很快对方发来信息，称自己所在公司最近招聘线上兼职人员，只需完成指定任务，即可获得对应“佣金”，“佣金”最高可达任务金额的30%，为了证明“真实性”，对方还发来了公司营业执照。

越剧经典剧目《柳毅传书》演绎了一个令人动容的民间奇幻爱情故事，作为2023南京文化艺术节“主题文艺精品展演”板块的剧目之一，8月10日，由国家一级演员孙静、沈美娟领衔唱响南京梅花小剧场，婉转悠扬，声声入耳，给戏迷朋友们带来了一场沉浸式的视听盛宴。

铜柱微凸起广泛应用于集成电路封装中，以建立芯片与基板之间或两块芯片之间的可靠连接。这些微凸起尺寸更小，互联密度更高，提供了高性能且高度可靠的翻转芯片互联解决方案。铜的固有特性赋予了卓越的电导率、热性能和可靠性。因此，铜柱微凸起广泛应用于翻转芯片封装、扇出封装和2.5D/3D封装，使其特别适合需要高互连密度和微型化的应用，预应力钢绞线如内存芯片和高性能计算芯片。然而，随着铜柱微凸起的互连距离持续下降，可靠性问题日益突出。在热循环条件下，微铜柱的凸起会受到热机械应力，这引发了对其可靠性的重大担忧。裸芯片与基板之间热膨胀系数的巨大差异可能导致热不匹配，导致铜柱微凸起失效，随着凸起尺寸减小，这种效应愈发明显。为了解决铜柱微凸起中应力集中带来的可靠性问题，研究人员主要开发了两种方法。第一个重点是增强铜柱微凸起的强度，以提升其抗断裂性，从而提高器件可靠性。第二种方法侧重于提升Cu柱微凸起的柔韧性，以减少器件整体变形，从而减轻纯Cu柱微凸起的应力集中，提升其可靠性。

RDL是半导体封装技术中的关键组件，用于在芯片封装过程中重新分配电气连接。它通过晶圆级金属布线和凸起制造，修改原始芯片接触点位置(输入/输出焊盘)，从而使芯片能够适应多种封装格式。RDL的制造过程通常包括多个步骤，包括绝缘层的沉积、光刻、金属沉积和蚀刻。然而，随着布线层数从四层增加到八层以上，以及线宽和间距接近亚微米尺寸，传统的RDL制造技术面临重大挑战。这些挑战包括芯片位移、芯片变形、芯片间应力以及对RDL线路的潜在损害。为应对这些挑战，研究人员广泛探索了3D打印技术在RDL制造中的应用，如图3所示。与传统的RDL制造方法不同，3D打印实现了材料的局部化、按需沉积。这使得RDL金属线路可以在室温下精确放置，随后烧结时温度相对较低，以最大限度减少芯片变形和芯片间应力。

微纳米增材制造技术允许高精度和灵活性地创建复杂的三维几何结构。这一能力不仅优化了空间利用率和性能，还通过消除传统包装流程中多步骤，降低了生产时间和成本。因此，它加快了芯片开发过程中的原型阶段和性能验证。其制造结构的可靠性和性能需要基于可量化指标如粘附强度、导电性、热性能和尺寸稳定性进行系统评估。目前的微纳米增材制造系统，仍限于研究层面应用。在工业平台开发中存在显著空白，其特点是自动化程度高、可扩展性。

凯视迈（KathMatic）是国产优质品牌，推出的KC系列多功能精密测量显微镜，可非接触、高精度地获取样品表面的微观形貌，生成基于高度的彩色三维点云，全程以数据图形化的方式进行显示、处理、测量、分析。

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KC系列三合一精测显微镜现已广泛应用于各行各业的新型材料研究、精密工程技术等基石研究领域。相比于同类产品，其主要特点在于：

1、更宽的成像范围：可测量的样品平面尺寸覆盖微米级~米级，无需为调整成像范围而频繁更换镜头倍率或采用图像拼接。

2、更快的测试速度：已从底层优化测试流程，新一代高效测试仅需两步⸺样品放置与视觉选区，KC自动完成后续测试。

3、更强大的分析功能：三维显示、数据优化、尺寸测量、统计分析、源数据导出微观形貌分析功能迎来大幅提升。

4、更稳定的测试表现：即便样品颜色、材质、反射率、表面斜率及环境温度存在明显差异，也可保证重复测试的稳定性。

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